セミナー等のご案内 | [大阪] 2024年6月4日（火）/　[東京] 2024年6月5日（水）

中国にフォーカスを当てた知的財産事情の解説: 中国特許及び特許ライセンスに関する最新情報、中国商標実務に関する最新動向と2024年INTA出席報告

ホーガン・ロヴェルズのアジア太平洋地域のIPMT チームが、大阪（6月4日）と東京（6月5日）で知財セミナーを開催します。

本セミナーでは、当事務所の中国、日本の特許及び商標チームが、日本企業や国際企業に影響を及ぼしうる、特許及び商標業界で注目されている話題や最新動向について、欧州との比較と合わせて中国にフォーカスを当て幅広く取り上げます。また、2024年5月にアトランタで開催のINTAの出席報告も行います。

本セミナーは、以下の2部構成で開催いたします。両方のセッションにご参加、もしくはご興味のあるセッションのみにご参加いただくことも可能です。

第1部:特許及び特許ライセンス

第2部:商標

第1部、第2部の最後に質疑応答の時間を設けております。本セミナーの申し込みフォームにご質問を記入し（日・英可）、事前にお送りいただくことも可能です。

セミナー後には懇親会を開催し、ネットワーキングと、講師とお気軽にご歓談頂ける機会を設けております。

皆様のご参加を心よりお待ち申し上げております。

◆プログラム◆

13:15 - 13:30	受付
13:30 - 13:35	開会挨拶ホーガン・ロヴェルズ東京事務所代表パートナー　フレデリック・チェン博士
13:35 - 14:50	第1部:特許及び特許ライセンス
	1. 中国特許法改正の最新情報
	2. 中国企業との知財・技術ライセンス供与における留意点
	3. 欧州との比較: 欧州単一特許（UP）及び統一特許裁判所（UPC）の動向及び主要判例に関する最新情報
14:50 - 15:00	第1部質疑応答
15:00 - 15:15	休憩/コーヒーブレイク
15:15 - 16:45	第2部:商標
	1. INTA出席報告
	2. 中国商標出願実務上の最近の注目すべき論点
	3. 景気回復を待つ中国におけるブランド・エンフォースメントの最新動向
	4. デジタル時代における知的財産権保護を理解する：機会、課題及び戦略
16:45- 16:55	第2部質疑応答閉会挨拶ホーガン・ロヴェルズ東京事務所パートナー　髙橋那恵
17:00 - 18:00	懇親会